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MicroChem光刻膠也稱為光致抗蝕劑，是一種光敏材料，它受到光照后特性會發生改變。光刻膠主要用來將光刻掩膜版上的圖形轉移到晶圓片上。

　　光刻膠有正膠和負膠之分。正膠經過曝光后，受到光照的部分變得容易溶解，經過顯影后被溶解，只留下未受光照的部分形成圖形；而負膠卻恰恰相反，經過曝光后，受到光照的部分會變得不易溶解，經過顯影后，留下光照部分形成圖形。

　　負膠在光刻工藝上應用早，其工藝成本低、產量高，但由于它吸收顯影液后會膨脹，導致其分辨率（即光刻工藝中所能形成小圖形）不如正膠，因此對于亞微米甚至更小尺寸的加工技術，主要使用正膠作為光刻

　　MicroChem光刻膠使用注意事項：

　　①若腐蝕液為堿性，則不宜用正性光刻膠

　　②看光刻機型式,若是投影方式,用常規負膠時氮氣環境可能會有些問題

　　③負性膠價格成本低，正性膠較貴

　　④工藝方面：負性膠能很好地獲得單根線，而正性膠可獲得孤立的洞和槽

　　⑤健康方面：負性膠為有機溶液處理，不利于環境；正性膠屬于水溶液，對健康、環境無害